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NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍ION GUNS: MODEL 1404 支持所有惰性氣體外加氮氣，可選氧氣功能，帶Thoria涂層燈絲
NONSEQUITUR 離子源離子槍 ION GUNS: MODEL 1401 5EV – 5KEV 氣相離子源 Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學(xué)實驗，例如使用Auger 和ESCA進行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。
NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調(diào)節(jié)
50KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源配備雙燈絲可集成濾波器MODEL 1450，具有可調(diào)光斑尺寸≥5 μm，用于空間定義的濺射或注入發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流
美國 IK-TECHNOLOGIES 多探針分析系統(tǒng)：UHV 除了表面分析組件外，LK Technologies還專門設(shè)計和構(gòu)建完整的特高壓系統(tǒng)，這些系統(tǒng)通常結(jié)合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。
美國 IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀TDS1000 我們的TDS1000是一個集成的系統(tǒng)工具，使用戶能夠以高靈敏度和定量校準(zhǔn)獲得TPD光譜。
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源，針對高輸出電流進行了優(yōu)化應(yīng)用于逆UPS，EELS等電子碰撞實驗。
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀MINICMA™ 對固體表面進行微區(qū)成份分析及元素分布?？蓱?yīng)用于半導(dǎo)體材料、冶金、地質(zhì)等部門。
