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美國 LK TECHNOLOGIES 電子槍 真空 LK1000M 唐：I582I984229
美國kimball physics EGH-6210電子槍系統(tǒng) 帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學(xué)裝置的 EMG-4193 電子槍是一個完整的子系統(tǒng)，可隨時連接到用戶的真空系統(tǒng)
美國kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng) Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用
美國kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng) 噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。
美國kimball physics EGPS-1011電子槍系統(tǒng) Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用 聯(lián)系 龔經(jīng)理 VX: yui231460 Call I8721868497
美國 IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源，針對高輸出電流進(jìn)行了優(yōu)化應(yīng)用于逆UPS，EELS等電子碰撞實驗。
